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上胶机系统的研制

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随着社会的不断向前发展,人们对生活质量的需求愿望也在日益提升,如高质且、多功能的电子设备。可以说目前半导体行业的发展状况决定了电子产品质量、功能的现状。上胶机是半导体芯片制造工艺中实现光刻工艺设备中关键性的一个,上胶机有许多常用名称:甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪等,主要应用于溶胶凝胶实验中的薄腆制作。其工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在墓片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。上胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂,工艺,可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。

上胶机

随着涂胶技术的应用推广,手工涂胶存在三方面的问题:(1)生产率低:(2)刷胶不均匀;(3)操作者易受有毒气体任容。考虑到成本等多方面的因素,我们课题组开发研制了简易上胶机,主要应用于科研及学生实习中。下面就上胶机的基本结构以及应用做一些探讨。